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工业级晶圆磁光克尔测量仪

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产品描述
技术指标
应用案例

产品型号：

Wafer-MOKE

产品简介：

利用极向/纵向磁光克尔效应(MOKE)，快速全局检测晶圆膜堆的磁性。非接触式测量，避免了传统磁性表征对晶圆的破坏，可应用于图形化前后的样品检测。可提供高达2.5 T的垂直磁场，高达1.4 T的面内磁场。强磁场可诱导垂直各向异性磁性随机存储器(MRAM)膜堆的自由层、参考层与钉扎层的翻转。超高克尔检出灵敏度，可以单次同时表征不同膜层的细微磁性变化。将激光逐点探测与扫描成像结合，可以快速创建晶圆磁特性全局图谱，辅助工艺优化与良率控制。
● 样品尺寸：最大支持12英寸晶圆测试且向下兼容，支持碎片测试

● 磁场：最大垂直磁场优于±2.5 T，最大面内磁场优于1.4 T，分辨率0.01 mT

● 磁性检测灵敏度：克尔转角检出度优于0.2 mdeg（RMS），适用多层膜堆的磁性表征

● 样品重复定位精度：≤2 µm

功能及应用场景：

● 磁性随机存储器膜堆和器件阵列的垂直磁滞回线测量（Polar Kerr for MRAM）

● 磁盘等磁存储介质的垂直磁滞回线测量（Polar Kerr for PMR Disk）

● 磁性传感器件膜堆的面内磁滞回线测量

● 自动提取磁滞回线信息，如自由层和钉扎层Hc、Hex、Ms（克尔转角值)等，可快速绘制晶圆的磁性特性分布图

● 系统预置单点、阵列、环形分布等扫点模式，且支持自定义位置列表的导入

● 系统提供手动加载或全自动操作方式，满足研发/生产需求
垂直各向异性磁隧道结膜堆的磁滞回线测量结果

8英寸垂直磁各向异性晶圆的矫顽场特性分布