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产品型号：
Atom Max
产品简介：
Atom Max晶圆级原子力显微镜利用微悬臂探针结构可对导体、半导体、绝缘体等固体材料进行亚纳米级三维扫描成像，可实现晶圆级大样品形貌表征。电动样品定位台与光学图像相结合，可在200×200 mm区域实现1 µm的定位精度，光学结构与扫描头集成一体，自动化程度高，操作便捷。
产品特点：
● 大行程样品台高精度定位技术：
200 mm×200 mm全区域重复定位精度≤5 μm，兼容8英寸及以下晶圆，实现晶圆全域无死角精准定位与扫描，杜绝大面积检测偏移问题。
● 一体式智能自动化设计：
对传统原子力显微镜的光学与扫描单元进行了高度集成化的重新设计，并引入了全面的自动化控制流程，探针寻峰/进针，物镜升降，激光对准及光电深测器(PSD)信号调节等关键步骤，均可通过软件界面精确执行，且可实现多点位自动连续测试。旨在将复杂、依赖经验的操作标准化，简单化。 -
样品尺寸 8英寸晶圆并向下兼容 扫描范围 100 μm × 100 μm × 10 μm 扫描角度 0-360° Z方向线性度 0.2% Z方向噪声水平 0.04 nm 图像采样点 32×32~4096×4096 工作模式 接触模式、轻敲模式、相位成像模式、抬起模式、多向扫描模式 多功能测量 静电力显微镜 （EFM）、开尔文探针力显微镜（KPFM）、压电力显微镜 （PFM）、磁力显微镜 （MFM）、力曲线、横向力显微镜（LFM）
选配：导电原子力显微镜（C-AFM）、纳米刻蚀（物理）
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晶圆与衬底材料
MEMS晶圆衬底AFM表征
功能模式：轻敲成像模式-形貌表征
样品描述：AFM 能够以纳米级分辨率实现MEMS晶圆衬底的三维表面形貌与微结构定量表征，具有无损伤、无需导电处理、定位精准、可测局部关键区域等优势，能够满足 MEMS 器件对衬底平整度、薄膜均匀性、微结构尺寸与界面质量的高精度检测需求，是 MEMS 工艺研发与质量控制的关键表征手段。
AlCrCuFeNi五元高熵合金的晶间腐蚀AFM表征
功能模式：轻敲成像模式-形貌表征
样品描述:AlCrCuFeNi 五元高熵合金是耐高温多元合金，高温环境下易发生晶间腐蚀，为高温耐蚀材料核心研究对象。AFM 可亚纳米尺度三维成像，精准定量测量腐蚀沟槽深度、表面起伏，直观表征晶界腐蚀缺陷分布，量化腐蚀损伤，为解析高温腐蚀机理、优化合金耐蚀性能提供微观形貌依据。
磁学和数据存储
Sr/Bi/Te二维材料AFM表征
功能模式：轻敲成像模式-形貌表征、磁畴分布
样品描述：Sr/Bi/Te 二维材料是以铋、碲为主体、锶掺杂或插层的范德华层状拓扑 / 热电材料，常表现出独特的磁电、输运与拓扑特性。利用磁力显微镜（MFM）表征，可在纳米尺度下直接观测其磁畴结构、局域磁响应、磁化分布与磁畴边界，分析掺杂与层状结构对局域磁性、磁有序及磁电耦合行为的影响，为研究其磁性起源、拓扑磁特性及器件应用提供关键的微观磁结构信息。
Maze Domain（迷宫磁畴）与 Skyrmions（斯格明子）AFM表征
功能模式：轻敲成像模式-形貌表征、磁畴分布
样品描述:Maze Domain（迷宫磁畴）与 Skyrmions（斯格明子）是拓扑保护的纳米磁结构，SAF/MgO/[Ta/Co/Pt]₉是支持其稳定存在的磁隧道结（MTJ）膜堆。该结构利用重金属 / 铁磁多层的界面 DMI 与垂直磁各向异性，可实现低电流驱动、高密度信息载体，主要应用于SOT‑MRAM、存算一体、类脑计算与高灵敏磁传感等领域。
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